Cu intercalation and field-driven filament formation in vertically aligned MoS$_2$ memristors

Touko Lehenkari, Hannu-Pekka Komsa

На странице источника доступны аннотация, полный текст или сведения о том, где его прочитать. Препринт может ещё не пройти рецензирование; проверьте, появилась ли журнальная версия.